生産性を向上させるプラズマ洗浄装置について

プラズマ洗浄装置は物質の第4の状態とされるプラズマを利用して、サンプルの表面に付着した微細な汚れを取り除きます。スマートフォンなどに搭載される半導体や電子部品は小型化・集積化が進んでいます。1つのチップに多くの機能が組み込まれており、複雑化したチップを洗浄するには高度なドライ洗浄の技術が必要です。ドライ洗浄とは薬液を使わず完全に乾いたまま半導体などの表面を綺麗にする技術で、プラズマ洗浄の他にも紫外線やオゾンを使う技術が存在します。

プラズマ洗浄装置のようにドライ洗浄を行う場合、薬液を洗い流すためのリンスや乾燥のための工程が不要になります。半導体や電子デバイス、医療器具やレンズなどを製造する際には微細な汚れを除去するためプラズマ洗浄装置が効果を発揮します。この装置はたんに有機物や無機物を除去するだけでなく、製品の品質や生産性を向上させます。プラズマ洗浄の方式にはアルゴン原子を使うRIEモードと、酸素分子を使うDPモードの2種類があります。

いずれも減圧されたチャンバーを使い、高周波電力を電極に印加する点で共通しています。RIEモードは電離されたアルゴンイオンがサンプルと衝突し、表面の有機物や無機物を弾き飛ばします。DPモードは酸素分子が電離して酸素原子となり、表面の有機化合物と反応して二酸化炭素や水分子になります。このタイプは化学反応を利用するため有機物のみが対象となり、生成された二酸化炭素などは真空ポンプで排気される仕組みになっています。

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