製品の品質を高めるプラズマ洗浄装置とは

スマートフォンなどの端末に搭載される半導体や電子部品は小型化・集積化が進んでおり、様々な機能が詰め込まれた複雑なチップを洗浄するには高度な技術が必要です。サンプルの表面処理を行うプラズマ洗浄装置は、プラスチックパッケージや様々な基板の表面洗浄の他に改質やアッシングなどに使われています。薬液を使わずに微細な汚れを除去する技術はドライ洗浄と呼ばれており、プラズマ以外にもオゾンや紫外線などを使う装置が存在します。ドライ洗浄は環境に優しいだけでなく半導体や電子デバイス、レンズや医療器具などの製造に欠かせない技術です。

プラズマ洗浄装置にはアルゴン原子を使うRIEモードと、酸素分子を使うDPモードという2種類の処理方式があります。前者は有機物と無機物の両方に対応できますが後者は有機物のみが対象です。いずれも電極間に高周波電力を印加してプラズマを発生させる点で共通しています。プラズマ洗浄装置は微細な汚れを取り除いて製品の品質を高めるだけでなく、生産性も大幅に向上させる働きがあります。

RIEモードのプラズマ洗浄装置は減圧されたチャンバーにアルゴン原子を導入し、高周波電力を印加します。プラス電荷のアルゴンイオンは電場で加速され、サンプルに衝突する際に有機物や無機物を弾き飛ばす仕組みになっています。DPモードは減圧されたチャンバーに酸素分子を導入し、高周波電力を印加します。酸素原子がサンプル上の有機化合物と反応を起こして二酸化炭素や水分子が生じます。

真空ポンプが二酸化炭素や水分子を排気してサンプル表面の汚れが除去されます。

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