プラズマ装置ならば微細な汚れを除去できます

プラズマ装置はプラズマクリーナーとも呼ばれており、半導体や電子デバイスなどの精密機器を製造する上で欠かすことができない存在です。精密機器の製造工程で発生した汚染や副生成物を除去する方法には、ドライ洗浄とウェット洗浄があります。ウェット洗浄は薬液を使うため、汚れを除去した後でリンスを使って薬液を洗い流し乾燥させなければなりません。リンスを用意するための費用がかかり、乾燥させるため手間もかかるというデメリットが存在します。

ドライ洗浄ならばリンスや乾燥の工程が不要なので、費用を抑えて素早く汚れを落とすことができます。プラズマ装置はドライ洗浄によって精密機器の汚れを落とすため、製品の品質や生産性が大幅に向上します。この装置にはアルゴン原子を使うRIEモードと、酸素分子を使うDPモードという2種類の処理方式があります。いずれも減圧されたチャンバー内で高周波電力によって電極間に印加し、プラズマを発生させる点では共通しています。

RIEモードでは電離されたアルゴンイオンが、イオンシースで加速されて汚れを構成する有機物や無機物に衝突します。アルゴンイオンを物理的に衝突させ、汚れを弾き飛ばす点にRIEモードの特徴があります。DPモードは高周波電力によって発生した酸素原子が、汚れを構成する有機化合物と反応して二酸化炭素と水分子になります。化学反応を利用して有機物を二酸化炭素と水分子に変え、真空ポンプで排出する仕組みです。

プラズマ装置には処理方式の異なるタイプがあるので、状況に応じて最適なものを選ぶことになります。プラズマ装置のことならこちら

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