プラズマ装置を使った精密機器の洗浄について

高品質な半導体などの精密機器を作るには、製造工程で発生する汚れや副生成物を除去しなければなりません。薬液を使わずサンプルに付着した微細な汚れを除去するのがドライ洗浄装置であり、特にプラズマ装置が様々な製品を製造するために使われています。ドライ洗浄装置は薬液を使用しないため、リンスを使って洗い流したり乾燥させる必要がありません。製品の表面に付着した汚れをウェットな洗浄装置よりも少ない工程で素早く取り除くことができます。

プラズマ装置は半導体や電子デバイス、レンズや医療器具など様々な製品を製造するために使われています。この装置を導入すると製品の品質だけでなく生産性も大幅に向上させることができます。実際に汚れを処理する方式には、アルゴン原子を使うものと酸素分子を使うものがあります。アルゴン原子を使う方式はRIEモードと呼ばれており、物理的に有機物や無機物による汚れを除去します。

酸素分子を使う方式はDPモードと呼ばれ、有機化合物と酸素原子が化学反応を起こして水分子や二酸化炭素に変わります。製品に付着した汚れは、水分子や二酸化炭素になり真空ポンプで排出されます。RIEモードとDPモードは、いずれも減圧されたチャンバー内で高周波電力によって電極間に印加しプラズマを発生させます。前者は物理的にアルゴンイオンを汚れにぶつけて除去しますが、後者は化学反応を利用して汚れを除去するという違いがあります。

処理対象となる汚れにも違いがあるので、発生する汚れの種類に応じて最適なプラズマ装置を選ぶことが大切です。

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