プラズマ装置の特徴とメリットについて

プラズマ装置はプラズマクリーナーとも呼ばれており、ドライ洗浄によって半導体などの表面に付着した微細な汚れを除去します。ドライ洗浄とは薬液を使わない洗浄方法で、汚れを除去した後にリンスで薬液を洗い流す必要がありません。ウェット洗浄のように薬液を洗い流して乾燥させる工程が不要なので、素早く汚れを除去できます。半導体や電子デバイスなどの精密機器を製造する現場では、プラズマ装置が不可欠な存在となっています。

プラズマ装置は製品の品質を高めるだけでなく、生産性も大幅に向上させることができるというメリットがあります。プラズマ装置には処理方式の違いによってRIEモードとDPモードの2種類が存在します。両者ともに減圧されたチャンバー内で、高周波電力によって電極間に印加してプラズマを発生させる仕組みは同じです。前者はアルゴンイオンを有機物や無機物で構成された汚れに衝突させ、弾き飛ばすことで除去します。

後者は酸素原子を汚れの原因である有機化合物と反応させて二酸化炭素と水分子に変え、真空ポンプで排出して取り除きます。有機物と無機物で構成された汚れが生じている場合には、両方に対応できるRIEモードの装置を選ぶとよいでしょう。有機物で構成された汚れが生じている場合には、DPモードの装置を選ぶと効果的に除去できます。精密機器に付着した汚れはウェット洗浄でも落とすことができますが、プラズマ装置のようなドライ洗浄の方が工程数が少ないため効率的で生産性が向上します。

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